Ha Oiii DualBand ULTRA 4nm CERTIFIED CMOS Filter 2"

Altair Dual-Band ULTRA Ha Oiii-nebulosafiltret levereras med en högupplöst spektrografisk testrapport.

Designat för fotografering i extrem ljusförorening, t.ex. i en storstad, med en färg-CMOS-kamera.

Detta filter släpper endast igenom Hα- och Oiii-ljus från emissionsnebulosor och blockerar nästan all oönskad ljusförorening. Med OD6 (0,0001 %) under majoriteten av oönskade visuella våglängder* garanteras maximal kontrast.

Genom en process utvecklad av Altair har varje filter i vårt certifierade sortiment en unik spektrografisk testrapport med 0,1 nm verklig upplösning. Detta är inte en simulering eller vilseledande marknadsföring som vissa utländska filter, där 5 nm FWHM annonseras men i verkligheten är 6–7 nm.

Smalspektrum Bi-Colour-fotografering blir alltmer populärt inom astrofotografi, särskilt i ljusförorenade områden eller under starkt månljus. Först lanserade Altair TriBand- och QuadBand-filter, och nu introducerar vi DualBand Ultra för den mest extrema ljusföroreningens undertryckning.

Produktfunktioner för Altair DualBand 4nm-filter:

• Fångar upp de två viktigaste emissionsbanden samtidigt och minskar ljusföroreningar, månljus och luftglöd.
• Samlar mer data på kortare tid, vilket utökar fototillfällen även under sommarens ljusa nätter.
• Extremt brant bandpass ger maximal kontrast: 4 nm FHWM centrerad på 500,7 nm Oiii och 4 nm FHWM centrerad på 656,3 nm Hα.
• Antireflexbeläggning som minimerar ljusringar.
• Kompatibel med både One Shot Colour (OSC) CMOS-kameror och monokroma astronomiska kameror.
• Inkluderar UVIR-blockering för modifierade och icke-modifierade DSLR-kameror.
• Optimal prestanda vid F4.0 eller långsammare bländartal.

Tekniska specifikationer för Altair 4nm Ha Oiii DualBand ULTRA-filter:

• Första bandet: Oiii CWL 500,7 nm, FWHM 4 nm, tolerans ~0,5 nm, genomsläpplighet 88–91 %.
• Andra bandet: Hα CWL 656,3 nm, FWHM 4 nm, tolerans ~0,5 nm, genomsläpplighet 90–94 %.
• Optisk densitet: OD6 (0,0001 %) mellan 200–760 nm (synligt spektrum), OD4.5 (0,003 %) mellan 800–1100 nm (IR-spektrum).
• 1,85 mm tjockt optiskt glas med 30 bågsekunders parallellitet.
• SiO2 "hård" överbeläggning med UVIR-blockering och antireflexbeläggning.